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| 固定碳99% | 货号。 |
| 品名机械剥离二氧化硅基底二硫化钨 | 规格1 盒目 |
| 型号JPG17 | 牌号。 |
| 水分。% | 膨胀度。倍 |
| 筛上物粒度。% | 灰分。 |
| 挥发分。% | 筛下物粒度。% |
| 品牌Jinpan |
展开
Jinpan 高品质 机械剥离二氧化硅基底二硫化钨
产品名称
中文名称: 机械剥离二氧化硅基底二硫化钨
英文名称：Mechanical eJPoliation WS2 on SiO2
性质
形态：薄膜
参数
基底：二氧化硅
基底尺寸：10 mmx10 mm
WS2面积：>10 μm2
应用
***推出机械剥离制备的二硫化钨，该类材料具有缺陷少，优异的光学性质，可以研究层数和荧光效应，此外，由于保持了原有晶格结构，所以该类材料是制备器件的理想材料。
其他信息
详情请发邮件至：sales@jinpanbio.com